中国材料研究学会

会员登录 会员注册

关注

在技术创新中,如何规避知识产权侵权
发布时间: 2021年8月25日
来源: 中国材料研究学会

基本信息

行业分类:石化与新材料

地区:四川省 成都市 新都区

需求方:四川金创立科技有限责任公司

需求背景 由于我国集成电路业早期处于一种相对封闭的环境中,没有与国际接轨,而且其市场占有率还不足以影响国外企业的市场占有率,因此,国内企业在产业发展初期一般采取产品替代为主的开发路线,知识产权问题还不很突出。现今,随着国内集成电路产业的迅猛发展,国内集成电路企业已逐步从替代产品向自主知识产权产品开发转型,无论制造还是设计都走向更为开放的环境,开始与世界真正接轨,国内集成电路产业在世界范围内承担起越来越重要的角色,知识产权问题也就越来越突出了。在这一过程中,我们面临的课题主要有两个:一个是如何合理、合法及规范地应用他人的知识产权,另一个是如何合理、有意识、有策略地保护自己的知识产权。由于我国集成电路业是正在发展的领域,因此,策略性保护显得尤为重要。

需解决的主要技术难题在技术创新中,如何规避知识产权侵权。

拟实现的主要技术目标/具体指标在技术创新中,如何规避知识产权侵权。

联系方式:zhaoguodongcmrs@